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责任编辑：赵子牛距离2019年结束只剩下35天了你做好准备迎接2020年了吗？一到年底，人就特别容易陷入回忆和比较之中，比如说这几天，#2017和2019的对比#挑战就火了！“2017和2019的对比”是什么梗？今天，这个话题登上了微博的热搜榜，

上述情况不符合《上市公司信息披露管理办法》第二条的规定。二、财务核算及内部控制不规范一是公司存在跨月份确认收入的问题，导致公司2017年7月-12月确认收入不准确。二是用印管理不到位，部分合同用印缺少用印审批记录。三是发货管理不到位，公司发货未保留物流公司的运输单据，存在先发货后补订单情况。四是合同管理不到位，部分合同编号错误，部分合同存在补签情况。

尽管以上仅是SonyXperia Flex的渲染图，但综合索尼也在为它的未来智能手机开发OLED技术等传闻来看的话，索尼的可折叠屏智能手机到来，只是时间问题了。中新网4月4日电 商务部新闻发言人高峰4日表示，中国海关总署于1月4日向加方通报了三家加拿大企业产品不合格的问题，同时分别于3月1日、3月26日撤销发现问题严重的两家加拿大油菜籽企业输华注册登记资质，并且暂停这两家企业及相关公司向中国出口油菜籽。另外一家加拿大企业暂未再次发现问题，从而未被撤销出口油菜籽资质。

行业内专家告诉记者，文章开头谈到的“光刻分辨力达到22纳米，结合多重曝光技术后，可用于制造10纳米级别的芯片”的说法是错误的。他指出，如果真的能做22nm的线宽，不用多次成像了，单次曝光就可以做10nm了。因为就design rule而言，10nm的metal层最紧的也只有44nm pitch，22nm CD，一次成像就够用了。就算是poly 66nm pitch，单次成像也足够了。况且10nm的Fin 本来就要用SAQP也只需要单次曝光，现在可以回到14nm的SADP，Fin pitch一般是36nm和33nm，所以真能做的22nm线宽，44nm pitch，做啥layer都可以只用一次就够了。

他指出，SP光刻的主要缺点就是聚焦的面积非常小，属于接触式光刻，一点点的defect缺陷就会造成成像品质的问题，因为是直写式光刻，所以生产效率很低，只能作为E beam光刻的竞争对手，适用于特殊应用，类似的应用范围是光纤领域，5G天线，或者是他们自己演示的用于科研领域的单光子探测器。这对于实验室科研，军工，有一定的意义，可以一定程度上替代现在的e beam光刻。另一方面，这个技术也具有图形粗糙度糟糕的特点，从他们演示的图形就可以看到LWR粗糙，歪歪斜斜，图像保真度非常低，只能作为技术验证，不能作为真实生产，更不要说量产可能了。

仪式的现场相当热闹，有1600人参加，包括来自全国各红色旅游省、市旅游主管部门负责人，全国红色旅游经典景区有关负责人，浙江省内游客代表，嘉兴市机关干部、党员群众代表等。政知道（微信ID：upolitics）留意到，活动当天，嘉兴市南湖风景名胜区管委会、延安革命纪念馆、井冈山管理局、遵义会议纪念馆、西柏坡纪念馆等全国著名红色旅游经典景区联合发布了《全国红色旅游经典景区倡议书》。看来，这些红色旅游景区的相关负责人是齐聚嘉兴南湖了。